méthode de dépôt interne en phase vapeur
- Domaine
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- électroniquefibre optique
- Dernière mise à jour
Définition :
Méthode de dépôt chimique en phase vapeur qui consiste à déposer sous forme gazeuse, à l'aide d'un chalumeau, de fines couches successives de silice dopée à l'intérieur d'un tube de silice.
Termes privilégiés :
- méthode de dépôt interne en phase vapeur n. f.
- procédé de dépôt intérieur n. m.
Termes utilisés dans certains contextes :
- procédé interne n. m.
- procédé intérieur n. m.
- dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur n. m.
- dépôt en phase vapeur à l'intérieur n. m.
- dépôt à l'intérieur n. m.
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[procédé interne | procédé intérieur] Bien que ces termes respectent les règles terminologiques de formation des termes, ils manquent de précision et devraient être utilisés seulement quand le contexte d'utilisation est sans ambiguïté.
[dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur | dépôt en phase vapeur à l'intérieur | dépôt à l'intérieur] Ces termes devraient normalement désigner l'opération, mais sont utilisés par métonymie, pour désigner le procédé.
Termes déconseillés :
- technique IVPO
- procédé I. V. P. O.
- I. V. P.
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IVPO est un sigle tiré des premières lettres du syntagme anglais inside vapour phase oxidation.
Traductions
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anglais
Auteur : Office québécois de la langue française,Termes :
- inside vapor-phase oxidation process
- inside vapor phase oxidation process
- inside vapour phase oxidation process
- IVPO process
- inside deposition process
- inside vapour deposition process
Termes associés :
- inside vapor phase oxidation
- inside vapour phase oxidation
- IVPO
- inside process
- inside vapor deposition
-
inside vapour deposition
L'étiquette Royaume-Uni signifie que le terme est principalement ou exclusivement utilisé au Royaume-Uni. Cette étiquette sert également à souligner un usage considéré comme caractéristique de l’anglais britannique (souvent par opposition à l’usage américain), mais qui est parfois également répandu dans d'autres pays, notamment des pays du Commonwealth.
- IVD
- inside chemical vapor deposition