rinçage à l'eau déionisée
- Domaine
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- électronique semi-conducteur
Note :
La première technique consiste à tremper les plaquettes dans un bain de révélation, puis dans un bain de neutralisation et, enfin dans un bain de rinçage pour éliminer les dernières traces. Le rinçage final se fait à l'eau déionisée.
Terme :
- rinçage à l'eau déionisée n. m.
Traductions
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anglais
Auteur : IBMOT : banque de données terminologiques,Note :
Rinsing is particularly important after caustic etching, and several stages of deionized water rinse may be necessary. The wafer surface tends to be grainier or rougher after caustic etch, which leads to occasional problems with backside contamination.
Termes :
- deionized water rinse
- DI water rinse