gravure sèche
- Domaine
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- électronique
Note :
Sous l'appellation de gravure sèche se trouvent réunies de nombreuses variantes de gravure assistée par plasma. La gravure sèche implique l'utilisation d'enceintes sous vide partiel voire poussé. . ce prix seulement, il est possible de descendre en dessous de 3 microns de résolution. La gravure se fait suivant des directions déterminées par les caractéristiques du plasma réalisé dans l'enceinte.
Terme :
- gravure sèche n. f.
Traductions
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anglais
Auteur : IBMOT : banque de données terminologiques,Note :
Dry etching of silicon, silicon dioxide and photoresist has been studied using NF3 plasmas diluted with helium and argon in both reactive ion etch mode and plasma etch mode.
Terme :
- dry etching