gravure humide
- Domaine
-
- électronique semi-conducteur
Note :
La gravure humide peut être obtenue soit par immersion du wafer dans un bain d'acide fluorhydrique FH ou chlorydrique HCl, soit par vaporisation des ces acides. Cette technique permet de graver tous les traits de 3 microns et plus. Cependant, elle présente le désavantage d'être isotropique : la vitesse d'attaque est la même dans toutes les directions.
Terme :
- gravure humide n. f.
Traductions
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anglais
Auteur : IBMOT : banque de données terminologiques,Terme :
- wet etching