dépôt chimique en phase vapeur sous pression réduite
- Domaine
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- électronique semi-conducteur
Définition :
Technique de dépôt de couches minces sur un substrat, dans laquelle les réactions chimiques ont lieu dans une enceinte à faible pression reliée à une pompe à vide.
Note :
La faible pression dans l'enceinte permet de mieux contrôler la réaction et, par conséquent, l'épaisseur des dépôts.
Terme :
- dépôt chimique en phase vapeur sous pression réduite n. m.
Traductions
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anglais
Auteur : IBMOT : banque de données terminologiques,Termes :
- low-pressure chemical vapor deposition
- LPCVD