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Fiche terminologique

FICHE TERMINOLOGIQUE

Interrogation 
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lithographie par ultraviolets extrêmes

Domaines

physique > optique

électronique

nanotechnologie

Auteur

Logo identifiant une fiche rédigée par l’Office québécois de la langue française Office québécois de la langue française, 2005

Définition

Technique de lithographie dans laquelle on utilise des rayons électromagnétiques, d'une longueur d'onde pouvant varier entre 10 et 14 nanomètres, pour reproduire le motif d'une structure nanométrique dans une résine sensible, vers laquelle ils sont dirigés à travers un masque par un système de miroirs.  

Note

Cette fiche fait partie du vocabulaire Réinventer le monde par la nanotechnologie.  

Termes jugés adéquats pour désigner le concept à l’intérieur d’un domaine spécialisé, conformes au système linguistique du français ou acceptables en vertu des politiques officielles de l’Office

Termes privilégiés

lithographie par ultraviolets extrêmes   n. f.

lithographie aux ultraviolets extrêmes   n. f.

lithographie ultraviolet extrême   n. f.

lithographie UV extrême   n. f.

lithographie EUV   n. f.

lithographie par rayons X mous   n. f.

Plusieurs auteurs emploient également le terme lithographie par rayons X mous pour désigner cette technique nouvelle parce que, sur l'échelle des ondes électromagnétiques, la limite qui sépare les rayons ultraviolets extrêmes des rayons X mous est approximative, et que la longueur d'onde utilisée pour ce type de nanolithographie se situe tout près de cette limite.

Anglais

Auteur

Logo identifiant une fiche rédigée par l’Office québécois de la langue française Office québécois de la langue française, 2005

Termes

extreme ultraviolet lithography   

extreme UV lithography   

EUV lithography   

soft X-ray lithography   

Plusieurs auteurs emploient également le terme soft X-ray lithography pour désigner cette technique nouvelle parce que, sur l'échelle des ondes électromagnétiques, la limite qui sépare les rayons ultraviolets extrêmes des rayons X mous est approximative, et que la longueur d'onde utilisée pour ce type de nanolithographie se situe tout près de cette limite.

Catalan

Auteur

Centre de terminologia Termcat, 2008

Définition

Tècnica de litografia en què s'utilitzen raigs electromagnètics, d'una longitud d'ona que pot variar entre 10 i 14 nanòmetres, per a reproduir el motiu d'una estructura nanomètrica en una resina sensible, vers la qual són dirigits a través d'una màscara per un sistema de miralls.  

Terme

litografia per raigs ultraviolats extrems   n. f.

Espagnol

Auteurs

Grupo Argentino de Terminología, 2007

Universidad Pontificia Comillas, 2007

Définition

Técnica de fotolitografía que consiste en utilizar haces de luz ultravioleta con longitud de onda muy corta dirigidos por un sistema de espejos para proyectar a través de una máscara de tipo esténcil, el motivo de una estructura nanométrica en resina fotosensible depositada sobre el material a estructurar.  

Termes

litografía ultravioleta extrema   s. f.

Argentine

litografía extrema-ultravioleta   s. f.

Espagne

litografía bajo luz ultravioleta extrema   s. f.

Espagne

litografía con luz ultravioleta extrema   s. f.

Argentine

litografía sumergida   s. f.

Espagne

litografía EUV   s. f.

Espagne

Italien

Auteur

Università di Bologna, 2008

Définition

Procedimento della fotolitografia che impiega luce ultravioletta a onde cortissime, tra gli 11 e i 14 nanometri.  

Termes

litografia a ultravioletti estremi   s. f.

litografia EUV   s. f.

Portugais

Auteurs

Instituto de Linguística Teórica e Computacional, 2009

Grupo de Estudos e Pesquisas em Terminologia – Universidade Federal de São Carlos, 2009

Termes

litografia de ultravioletas extremos   s. f.

Portugal

litografia por ultravioleta extremo   s. f.

Brésil

litografia por raios X   s. f.

Roumain

Auteur

Institutul de Lingvistică „Iorgu Iordan – Al. Rosetti”, 2007

Termes

litografie soft X-ray   s. f.

litografie UV extreme   s. f.

litografie cu ultraviolete extreme   s. f.

Litografie cu ultraviolete extreme : termen propus.